MMGP logo
Присоединяйтесь к нашему инвестиционному форуму, на котором уже 649,916 пользователей. Чтобы получить доступ ко многим закрытым разделам и начать общение - зарегистрируйтесь прямо сейчас.
Обсуждение новостей, связанных с финансами и инвестициями.
При поддержке
Первый пост Опции темы
Старый 11.07.2017, 04:42
#1
 
Пол: Мужской
Адрес: Western
Регистрация: 03.09.2010
Сообщений: 22,360
Благодарностей: 3,590
Inpria для фоторезистов из оксида металла для литографии привлек $23,5 млн инвестиций




Американская компания Inpria из Корваллис штат Орегон является разработчиком и производителем фоторезистов из оксида металла высокого разрешения для ультрафиолетовой литографии (EUV) и для этих целей привлекла $23,5 млн. инвестиций в серии В.

Главным инвестором стала венчурная компания Samsung, а также приняли участие Aliad (венчурное инвестиционное подразделение Air Liquide), венчурная компания Applied (венчурное подразделение Applied Materials), компания Intel Capital и поставщик фоторезистов JSR Corporation.

Компания намерена использовать привлеченные средства для завершения экспериментального производства, для начала коммерческого производства и для увеличения своей рабочей силы.




Inpria была основана в 2007 году, как отдел от химического факультета университета штата Орегон и финансировалась NSF - центром химии устойчивых материалов. Эндрю Гренвилл является генеральным директором компании Inpria, которая разработала фоторезисты из оксида металла для литографии EUV на 7-нм технологическом узле и за ее пределами. Это позволяет упростить производственные потоки и служит для общего снижения стоимости производства.




Более 50 лет усовершенствования в области фотолитографии (полупроводникового паттерна) оборудования и материалов позволили полупроводниковой промышленности выпускать все более мощные, более энергоэффективные и более доступные электронные устройства.




В рамках процесса фотолитографии фоторезисты представляют собой фоточувствительные материалы, которые физически регистрируют экспозиции картин на кремниевой пластине. Улучшения в фотолитографическом оборудовании с каждым поколением обеспечивают изображения с более высоким разрешением.




Разработанные материалы компании на основе оксида металла поглощают 4-5X больше фотонов/объема, чем обычные фоторезисты, что делают их хорошо подходящими для достижения целевых показателей чувствительности.

Inpria создала многообразную команду с многолетним опытом работы в таких организациях, как Intel, HP, IMEC, SEMATECH, Kovio, Freeslate, Lawrence Berkeley National Labs и Los Alamos National Labs.




Перевод специально для mmgp.ru


bizneser вне форума
Войдите, чтобы оставить комментарий.
Быстрый переход